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第4章

書(shū)名:我在2025搞芯片  |  作者:劉福貴先生  |  更新:2026-05-15
實(shí)驗(yàn)室里的攻堅(jiān)戰(zhàn)------------------------------------------,林辰就知道,平靜的日子已經(jīng)結(jié)束了。英特芯科技不會(huì)善罷甘休,而他必須在對(duì)方動(dòng)手之前,拿出實(shí)實(shí)在在的成果。,張敬華已經(jīng)召集了所有能調(diào)動(dòng)的人手。實(shí)驗(yàn)室里燈火通明,十幾名研究生和年輕教師圍在一臺(tái)老舊的滬光精密28nm DUV光刻機(jī)前,臉上滿是興奮又忐忑的神情。“林辰,設(shè)備和材料我都給你湊齊了。”張敬華指著角落里堆放的箱子,聲音有些沙啞,“光刻機(jī)是十年前的老型號(hào),精度勉強(qiáng)能達(dá)到要求。光刻膠是南大光電最新量產(chǎn)的ArF干式光刻膠,國(guó)產(chǎn)的,純度比**的差一點(diǎn),但湊合用。大硅片是滬硅產(chǎn)業(yè)的12英寸片,良率大概85%。其他材料也都是國(guó)產(chǎn)替代的,能弄到的最好的了。”,心里清楚這已經(jīng)是張敬華能做到的極限。2025年的華夏,高端半導(dǎo)體材料幾乎全部依賴進(jìn)口。星聯(lián)合眾國(guó)的制裁令剛下,**和歐洲的供應(yīng)商就已經(jīng)停止了供貨,就連最基礎(chǔ)的電子特氣都變得一票難求。“張教授,謝謝您?!绷殖洁嵵氐鼐狭艘还?,“有這些就夠了。夠不夠,不是我說(shuō)了算,是實(shí)驗(yàn)結(jié)果說(shuō)了算?!睆埦慈A拍了拍他的肩膀,“我已經(jīng)跟學(xué)校申請(qǐng)了,這個(gè)實(shí)驗(yàn)室從今天起歸你全權(quán)指揮。所有人都聽(tīng)你的安排,包括我?!?,實(shí)驗(yàn)室變成了戰(zhàn)場(chǎng)。林辰制定了嚴(yán)格的作息表,所有人分成三班倒,24小時(shí)不間斷工作。他自己更是吃住都在實(shí)驗(yàn)室,每天只睡三個(gè)小時(shí)。。用DUV光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)5nm制程,需要采用自對(duì)準(zhǔn)四重圖形化技術(shù)(SAQP),這意味著同樣的圖案要經(jīng)過(guò)四次光刻、四次刻蝕、四次清洗才能完成。任何一個(gè)環(huán)節(jié)出現(xiàn)0.1納米的誤差,整個(gè)晶圓就會(huì)報(bào)廢。。老舊的光刻機(jī)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)精度不夠,第一次曝光后,套刻誤差達(dá)到了5納米,遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過(guò)了5nm制程允許的1納米上限?!安恍?,誤差太大了?!碧K晚晴盯著屏幕上的檢測(cè)數(shù)據(jù),眉頭緊鎖。她是張敬華特意從華夏芯制造借調(diào)過(guò)來(lái)的工藝工程師,有著豐富的流片經(jīng)驗(yàn),“這臺(tái)設(shè)備的機(jī)械結(jié)構(gòu)已經(jīng)老化了,再怎么校準(zhǔn)也達(dá)不到要求?!?。沒(méi)有高精度的光刻機(jī),一切理論都是空談。,他走到光刻機(jī)前,仔細(xì)觀察著每一個(gè)部件。過(guò)了足足一個(gè)小時(shí),他突然開(kāi)口道:“把光刻機(jī)的光源功率降低15%,曝光時(shí)間延長(zhǎng)20%。然后修改掩膜版的補(bǔ)償參數(shù),加入0.3納米的預(yù)偏移量。這怎么行?”蘇晚晴立刻反對(duì),“降低光源功率會(huì)導(dǎo)致光刻膠曝光不足,延長(zhǎng)曝光時(shí)間又會(huì)增加衍射效應(yīng),只會(huì)讓誤差更大!相信我。”林辰的眼神無(wú)比堅(jiān)定,“我計(jì)算過(guò),這臺(tái)設(shè)備的光學(xué)系統(tǒng)有一個(gè)特殊的像差特性。降低功率和延長(zhǎng)時(shí)間,正好可以抵消這個(gè)像差。再加上預(yù)偏移補(bǔ)償,套刻誤差能控制在0.8納米以內(nèi)?!?。當(dāng)?shù)诙纹毓馔瓿珊?,檢測(cè)數(shù)據(jù)出來(lái)了——套刻誤差0.76納米。
實(shí)驗(yàn)室里爆發(fā)出一陣歡呼。蘇晚晴看著林辰的背影,眼神里充滿了敬佩。她終于明白,為什么這個(gè)年輕的博士生能提出那樣驚世駭俗的理論。他對(duì)光刻機(jī)的理解,已經(jīng)超越了這個(gè)時(shí)代的所有人。
然而,困難接踵而至。國(guó)產(chǎn)光刻膠的分辨率不足,導(dǎo)致刻蝕后的線邊緣粗糙度(LER)達(dá)到了3.5納米,比**產(chǎn)品高出一倍多。這會(huì)直接導(dǎo)致芯片漏電流增加,功耗上升20%以上。
林辰帶領(lǐng)團(tuán)隊(duì)連續(xù)攻關(guān)了三天三夜,終于找到了一個(gè)解決方案。他們?cè)诠饪棠z中加入了一種特殊的納米添加劑,同時(shí)優(yōu)化了顯影工藝,將LER降低到了2.2納米。雖然還是比EUV工藝的1納米差,但已經(jīng)滿足了5nm制程的基本要求。
在所有人都在為攻克一個(gè)個(gè)技術(shù)難題而歡呼的時(shí)候,角落里一個(gè)身影的眼神卻越來(lái)越陰冷。
陳斌站在人群后面,看著被眾人簇?fù)淼牧殖?,拳頭攥得咯咯作響。他比林辰早三年讀博,是張敬華最得意的門(mén)生之一。原本這次博士畢業(yè),他已經(jīng)拿到了聯(lián)芯國(guó)際的高薪offer,前途一片光明。可林辰的出現(xiàn),搶走了所有人的關(guān)注,也讓他變得一文不值。
“等著吧,林辰。”陳斌在心里惡狠狠地說(shuō)道,“你不會(huì)得意太久的。”
他悄悄拿出手機(jī),給王海濤發(fā)了一條短信:“一切順利,他們已經(jīng)進(jìn)入刻蝕環(huán)節(jié)了。我會(huì)找機(jī)會(huì)拿到完整的工藝參數(shù)?!?br>手機(jī)屏幕亮起,回復(fù)只有兩個(gè)字:“盡快。”
此時(shí),距離流片開(kāi)始已經(jīng)過(guò)去了七天七夜。第一批12片晶圓終于完成了所有的工藝步驟,進(jìn)入了最后的測(cè)試環(huán)節(jié)。
所有人都圍在探針臺(tái)周?chē)?,屏住了呼吸。林辰深吸一口氣,將探針輕輕放在了第一片晶圓上。
屏幕上,測(cè)試數(shù)據(jù)開(kāi)始跳動(dòng)。
(**章完)
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